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J-GLOBAL ID：200903084589413320

ポリマー基材の状態調整方法

Inventor： マーク・ジエフレイ・シヤート ,  アルフレツド・ヴイーベツク
Applicant, Patent owner： インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイシヨン
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992095168
Publication number (International publication number)：1993129249
Application date： Apr. 15, 1992
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 酸素雰囲気を用いるエッチング法等の乾式法に起因して露出ポリマー材料に起こる酸化を克服する。【構成】 ポリマー基材を酸素含有プラズマに露出し、次に約120°C以上の高温の還元性雰囲気に露出する。この還元処理は、酸化性プラズマの作用によるポリマー表面化学の効果を逆転する。このようにして、ある種のポリマーの表面における元の電気的活性が再生される。

Claim (excerpt)：

ポリマー基材を酸素含有プラズマに露出すること;及び引き続き前記のポリマー基材を約120°C以上の高温の還元性雰囲気に露出することを包含するポリマー基材を状態調整する方法。

IPC (2)：

H01L 21/302 ,  H01L 21/324