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J-GLOBAL ID:200903084595655379
凸版及びパターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002173939
Publication number (International publication number):2004017409
Application date: Jun. 14, 2002
Publication date: Jan. 22, 2004
Summary:
【課題】パターン形成材料を精度良くかつ非接触的に転移させ、安定して基材と版を引き剥がせるようにすること。【解決手段】(1)曲面状に加工した弾性体表面に所定の凸部を形成した可尭性を有する媒体を固定してなることを特徴とする凸版の凸部に、パターン形成材料を付着させる工程、(2)前記凸版を変形させながら所定の基材に押し当てる工程、(3)前記凸版を引き上げる工程、以上(1)から(3)の工程によりパターン形成材料を基材に転写することを特徴とするパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
曲面状に加工した弾性体表面に所定の凸部を形成した可尭性を有する媒体を固定してなることを特徴とする凸版。
IPC (3):
B41M1/40
, G03F7/20
, H01L21/027
FI (3):
B41M1/40 C
, G03F7/20 511
, H01L21/30 502D
F-Term (8):
2H097LA02
, 2H113AA01
, 2H113AA02
, 2H113AA04
, 2H113BA41
, 2H113BC00
, 2H113CA17
, 5F046AA28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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特開昭49-014212
-
特開昭60-034855
-
特開昭52-138205
-
工業用ゴム印
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-133672
Applicant:合資会社小野印房
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