積層磁性膜及びそれを用いた薄膜磁気素子

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997178171
Publication number (International publication number)：1999026234
Application date： Jul. 03, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】、薄膜磁気素子の低損失化、即ち、所定の高飽和磁化・軟磁性膜の本来の特性を反映した、樹脂層上で磁性材料本来の特性を発揮する積層磁性膜及びこれを用いた薄膜磁気素子を提供すること。【解決手段】本発明の積層磁性膜は、磁性層5と絶縁層4,6の積層より成る積層磁性膜層7と、樹脂層2とを具備しており、更に上記積層磁性膜層7と上記樹脂層2が直接当接する界面を有せず、即ち、樹脂層2と積層磁性膜層7との間に緩衝層が挿入された構成となっている。

Claim (excerpt)：

磁性層と絶縁層の積層より成る積層磁性膜層と、樹脂層とを具備する積層膜において、上記積層磁性膜層と上記樹脂層が直接当接する界面を有しないことを特徴とする積層磁性膜。

IPC (2)：

H01F 10/08 , H01F 17/00

FI (2)：

H01F 10/08 , H01F 17/00 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

平面型磁気素子およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-209680 Applicant：株式会社東芝
光磁気記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-233704 Applicant：エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
特開昭57-073923

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