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J-GLOBAL ID:200903084640926583

放射線取扱施設の構造部品の化学除染方法及びその装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 猪股 祥晃 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999132892
Publication number (International publication number):2000081498
Application date: May. 13, 1999
Publication date: Mar. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】除染性能が高く、二次廃棄物の発生量が少なく、同時に、除染剤であるシュウ酸及びオゾン排ガスの処理ができる。【解決手段】電極に触媒金属を用いて純水を電気分解することにより高濃度オゾンを発生させるオゾン発生器から得られるオゾンガスまたはオゾン水溶液の酸化力により酸化皮膜を酸化溶解する酸化溶解工程と、シュウ酸による還元溶解工程と、還元剤の分解工程、及び溶出金属の分解工程とで構成する。酸化皮膜の除去効果が高い酸化条件として、オゾン酸化処理条件は溶液のpH4以下かつ温度が80°C近傍の条件が適切である。またシュウ酸による還元溶解条件としては、シュウ酸0.2 %以上で、温度95°Cの条件が適切である。あらかじめ還元溶解工程により鉄系酸化物を溶解することにより、除染効果が向上する。オゾンの系内への注入は、ミキシングポンプにより行い、除染対象物(熱交、ポンプ回転体、配管)ごとの化学除染装置を提供する。
Claim (excerpt):
放射線取扱施設の構造部品を除染対象物とし、この除染対象物に付着した放射性物質を含む酸化皮膜を化学的に溶解して除染する放射線取扱施設の構造部品の化学除染方法において、酸性水溶液にオゾンガスを接触させることにより得られるオゾン水溶液を、前記除染対象物の汚染部分に供給することで前記酸化皮膜を酸化溶解することを特徴とする放射線取扱施設の構造部品の化学除染方法。
IPC (2):
G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 521
FI (2):
G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/28 521 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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