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J-GLOBAL ID:200903084642428343
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004069030
Publication number (International publication number):2004302445
Application date: Mar. 11, 2004
Publication date: Oct. 28, 2004
Summary:
【課題】 本発明の目的は、良好なプロファイルを示し、露光後加熱(PEB)依存性が小さい感光性組成物を提供する。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物(A成分)の含有量:a質量部、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(B成分)の含有量: b質量部、性能調整剤(C成分)の含有量:c質量部、及び、溶剤(D成分)の含有量:d質量部の関係が、以下の式(1)を満足し、式(2)及び(3)の少なくともいずれかを満足する感光性組成物。 尚、cは0であってもよい。 (a+b+c)/(a+b+c+d)=0.03〜0.10 (1) [(A成分の分子中の芳香環数+1)×a]/(a+b+c) (2) =0.05〜0.80 a/(a+b+c)=0.03〜0.20 (3)【選択図】 なし
Claim (excerpt):
活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物(A成分)、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂(B成分)、性能調整剤(C成分)及び溶剤(D成分)を含有する感光性組成物であって、A成分、B成分、C成分及びD成分の含有量、a、b、c及びd(質量部)が、式(1)及び(2)を満たすことを特徴とする感光性組成物。ただし、cは0であってもよい。
(a+b+c)/(a+b+c+d)=0.03〜0.10 (1)
[(A成分の分子中の芳香環数+1)×a]/(a+b+c) (2)
=0.05〜0.80
IPC (2):
FI (2):
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (14):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB08
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025CC20
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (8)
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-327091
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-373077
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-250452
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-169802
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-343713
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-161500
Applicant:和光純薬工業株式会社
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高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-349459
Applicant:信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
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感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-250535
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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