乾式現像可能なフォトレジスト組成物およびその使用方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：頓宮孝一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992305898
Publication number (International publication number)：1993232707
Application date： Oct. 21, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】乾式現像可能な表面像形成性フォトレジスト組成物と、これにより基体上にポジチブ調のレジスト像を生成させるための方法の提供。【構成】このフォトレジスト組成物は求電子置換に対し活性化されたフィルム-形成性芳香系重合体樹脂、この芳香系重合体樹脂中に芳香環を導入しうる酸触媒性の架橋化剤および放射線分解可能な酸発生化合物を混合してなる。

Claim (excerpt)：

(a) (i)求電子芳香置換化に対して樹脂を安定化して活性化する官能基を有するフィルム-形成性の芳香系重合体樹脂、(ii)酸との反応に際してカルボニウムイオンを形成する酸触媒性の架橋化剤、および(iii)像形成用放射線を吸収するようにした放射線分解可能な酸発生剤とから構成され、架橋化の際、この組成物は未架橋の領域におけるよりも架橋化した領域中でさらに高度に稠密度化され、そして有機金属試薬の吸収に対する浸透性が小さくなるようなフィルムにより基体を塗布し;(b) このフィルムを中-または深-UV放射線に像露光して、フィルムの露光部分の樹脂を稠密度化し;(c) 前記フィルムを有機金属試薬と接触させて、未露光の浸透性のさらに大きな領域に有機金属化剤を吸収させ;そして(d) 反応性イオンによりこのフィルムをエッチングしてポジチブのレジストパターンを得る各工程からなる基体上にポジチブ調のレジスト像を生成する方法。

IPC (7)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , G03F 7/38 511 , G03F 7/38 512 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開昭63-231442
特開昭63-231442
特開平2-154266

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