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J-GLOBAL ID：200903084656232590

グラフオエピタキシー用基板の製法

Inventor： 秋山 善一 ,  木村 祥子 ,  藤村 格
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 友松 英爾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991297908
Publication number (International publication number)：1993109618
Application date： Oct. 18, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 グラフォエピタキシー用基板の製造において、ゾル-ゲル法の長所のみを生かし、短所を除外した新規なゾル-ゲル法利用グラフォエピタキシー用基板の製造方法を提供することにある。【構成】 母材基板上に、焼成により石英ガラスに変化することのできる前駆体のゲルを薄膜状に堆積し、つぎに凹凸模様をもつスタンパーを押しつけて型どりを行い、最后にこれを焼結することを特徴とするグラフォエピタキシー用基板の製法。

Claim (excerpt)：

母材基板上に、焼成により石英ガラスに変化することのできる前駆体のゲルを薄膜状に堆積し、つぎに凹凸模様をもつスタンパーを押しつけて型どりを行い、最后にこれを焼結することを特徴とするグラフォエピタキシー用基板の製法。

IPC (3)：

H01L 21/20 ,  H01L 27/12 ,  H01L 21/02