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J-GLOBAL ID：200903084674862304

真空処理装置

Inventor： 前田 尚志 ,  塩尻 史郎
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995112398
Publication number (International publication number)：1996288361
Application date： Apr. 13, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 真空処理装置の真空予備室の保守点検時における蓋の開閉の際の安全性の向上を、きわめて簡単な構成で図ることを主たる目的とする。【構成】 真空予備室6の天井部分を形成する蓋12の大気圧領域側の外周に、当該蓋12の大気圧領域に露出する側端部分12aを囲繞するようにガイド30を設けるとともに、当該蓋12の外部に取っ手31を設ける。

Claim (excerpt)：

大気圧領域と、試料を処理する高真空領域の処理室との間に位置し、前記大気圧領域および処理室とは、それぞれ真空弁を介して区画され、その天井部には大気圧領域に通じる保守点検用の開口を形成するとともに、この開口に大気圧領域側に開く蓋を設けてなる真空予備室を備えた真空処理装置において、前記真空予備室の天井部分を形成する前記蓋の大気圧領域側の外周に、当該蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞するようにガイドを設けるとともに、前記蓋の外部に取っ手を設けたことを特徴とする真空処理装置。

IPC (7)：

H01L 21/68 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/48 ,  F16J 13/02 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

FI (7)：

H01L 21/68 A ,  B01J 3/00 J ,  C23C 14/48 Z ,  F16J 13/02 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/317 B ,  H01L 21/265 D