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J-GLOBAL ID：200903084696152343
細胞培養方法および装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中尾 俊輔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997255381
Publication number (International publication number)：1999089561
Application date： Sep. 19, 1997
Publication date： Apr. 06, 1999
Summary：
【要約】【課題】 少なくとも温度、湿度およびガス濃度を所定値に保持した環境内に配置された培養液中で細胞を培養する場合において、培養液を常に湿度およびガス濃度が所定値に保持され、かつ、温度環境と分離された環境内に配置して培養することができ、常に理想的な環境条件において細胞培養を行なうことができる細胞培養方法および装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも温度、湿度およびガス濃度を所定値に保持した環境内に配置された培養液中で細胞を培養する細胞培養方法において、前記温度を所定値に保持する温度環境内に少なくとも前記湿度およびガス濃度を所定値に保持する分離環境を別個に設けるとともに、当該分離環境内の湿度およびガス濃度を所定値に保持するガスバッファを設け、当該分離環境内に前記培養液を配置して細胞を培養することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
少なくとも温度、湿度およびガス濃度を所定値に保持した環境内に配置された培養液中で細胞を培養する細胞培養方法において、前記温度を所定値に保持する温度環境内に少なくとも前記湿度およびガス濃度を所定値に保持する分離環境を別個に設けるとともに、当該分離環境内の湿度およびガス濃度を所定値に保持するガスバッファを設け、当該分離環境内に前記培養液を配置して細胞を培養することを特徴とする細胞培養方法。
IPC (3)：
C12M 3/00
, C12M 1/04
, C12N 5/06
C12M 3/00 Z
, C12M 1/04
, C12N 5/00 E
