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J-GLOBAL ID：200903084700191111
ポジ型フオトレジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995002791
Publication number (International publication number)：1996190195
Application date： Jan. 11, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：
【要約】【目的】 感度、解像度に優れるとともに、特に、性能の膜厚依存性が小さく、耐熱性に優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及びベンゼン環を3つ以上、水酸基を4つ以上を有し、且つ1つのベンゼン環に有する水酸基が2つ以下であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルであり、且つ高速液体クロマトグラフィーの全パターン面積に対して、4価以上のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルのトリエステル体成分のパターン面積が50%以上である感光性化合物を有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂及び感光性化合物からなるポジ型フォトレジスト組成物において、感光性化合物が、ベンゼン環を3つ以上、水酸基を4つ以上を有し、且つ1つのベンゼン環に有する水酸基が2つ以下であるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルであり、且つ254nmの紫外線を使用した検出器を用いて測定した高速液体クロマトグラフィーの全パターン面積に対して、4価以上のポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルのトリエステル体成分のパターン面積が50%以上であることを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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