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J-GLOBAL ID：200903084732220741

高純度薄膜作製方法

Inventor： 石川 年明
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 菅 直人 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994131006
Publication number (International publication number)：1995316790
Application date： May. 20, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】多元素を含む原料中から1種類の元素のみを選択的に分離して高純度薄膜を作製する方法の提供【構成】2種以上の元素を含む原料の原子ビームに対して、1種の原子のみが選択的に励起されるように波長設定した第1および第2の2つの異なる波長のパルスレーザー光を照射して、2段階共鳴励起過程により目的原子のみをイオン化し、この光イオン化領域に電場を掛けて、発生したイオンを原子ビームの流れから離れた清浄な空間に設置された基板上に導いて捕集積層する高純度薄膜作製方法と、その原子ビームを一対のミラーで挟み、パルスレーザー光をミラーにより原子ビーム中を複数回往復させる高純度薄膜作製方法。

Claim (excerpt)：

2種以上の元素を含む原料を蒸発させて平行な原子ビームとなし、該原子ビーム中の1種の原子のみが選択的に励起されるように波長設定した第1および第2の2つの異なる波長のパルスレーザー光を前記の原子ビームに照射して、2段階共鳴励起過程により該目的原子のみをイオン化し、この光イオン化領域に電場を掛けて、発生したイオンを原子ビームの流れから離れた清浄な空間に設置された基板上に導いて捕集積層することを特徴とする高純度薄膜作製方法。