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J-GLOBAL ID：200903084751890227

半導体製造設備用転がり軸受

Inventor： 近藤 博光 ,  山田 博
Applicant, Patent owner： エヌティエヌ株式会社
Agent (1)： 江原 省吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992008938
Publication number (International publication number)：1993196045
Application date： Jan. 22, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 平均分子量が5000以下のPTFEを用いた転がり軸受の耐久性をさらに向上させる。【構成】 保持器4は自己潤滑性を有する高分子材で形成されている。内・外輪1、2の転走面および転動体3の表面にはそれぞれ平均分子量が5000以下のPTFEの潤滑皮膜1a、2a、3aが形成されている。

Claim (excerpt)：

転がり軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成したものであって、この軸受の保持器が自己潤滑性を有する高分子材で形成されていることを特徴とする半導体製造設備用転がり軸受。

IPC (5)：

F16C 33/62 ,  F16C 33/32 ,  F16C 33/34 ,  F16C 33/44 ,  F16C 33/56

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 固体潤滑転がり軸受
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-190150   Applicant：エヌテイエヌ株式会社