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J-GLOBAL ID：200903084763302282

反射防止膜、反射防止フィルムおよび画像表示装置

Inventor：
大林 達彦

About 大林 達彦

, 
細川 隆史

About 細川 隆史


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 飯田 敏三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002133296
Publication number (International publication number)：2003329804
Application date： May. 08, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】 第1に大量生産に適した塗布型の反射防止膜を提供し、第2に表面滑り性を任意に制御できかつ接触媒体に対するシリコン成分の転写が起こらない耐久性、耐候性に優れた反射防止膜を提供する。また、第3に反射率が低く、耐擦傷性に優れた反射防止膜を提供し、第4に反射が防止された画像表示装置を提供する。【解決手段】 下記一般式1で表わされる反応性有機官能基を有するポリシロキサン化合物とパーフルオロオレフィン共重合体とを有する組成物を硬化させることによって形成された低屈折率層を有する反射防止膜。【化1】一般式1中、R1〜R4は炭素数1〜20の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていても良く、R1,R3,R4のうち少なくとも一つの基が反応性有機官能基を表す。xは1≦x≦4を満たす整数を表わす。yは10≦y≦500を満たす整数を表わし、zは0≦z≦500を満たす整数を表わし、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であっても良い。
Claim (excerpt)：
下記一般式1で表わされる反応性有機官能基を有するポリシロキサン化合物とパーフルオロオレフィン共重合体とを有する組成物を硬化させることによって形成された低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。【化1】一般式1中、R1〜R4は炭素数1〜20の置換基を表し、それぞれの基が複数ある場合それらは互いに同じであっても異なっていても良く、R1,R3,R4のうち少なくとも一つの基が反応性有機官能基を表す。xは1≦x≦4を満たす整数を表わす。yは10≦y≦500を満たす整数を表わし、zは0≦z≦500を満たす整数を表わし、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であっても良い。
IPC (5)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/00 101 ,  C08G 81/02 ,  G02F 1/1335 500
FI (5)：
B32B 7/02 103 ,  B32B 27/00 101 ,  C08G 81/02 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02B 1/10 A
F-Term (35)：
2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091LA12 ,  2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009EE00 ,  4F100AK17B ,  4F100AK17J ,  4F100AK52B ,  4F100AK52J ,  4F100AK52K ,  4F100AL01B ,  4F100AR00A ,  4F100BA02 ,  4F100GB41 ,  4F100JK12 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4J031AA14 ,  4J031AA59 ,  4J031AB01 ,  4J031AC01 ,  4J031AC03 ,  4J031AC04 ,  4J031AC07 ,  4J031AC08 ,  4J031AC09 ,  4J031AC11 ,  4J031AC13 ,  4J031AD01 ,  4J031AF21
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (1)

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