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J-GLOBAL ID：200903084771536152

酸化チタン光触媒高担持シリカゲルおよびその製造方法

Inventor： 前川 正明 ,  白井 千佐子 ,  竹内 聡 ,  山田 善市
Applicant, Patent owner： 新東工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999024486
Publication number (International publication number)：2000218160
Application date： Feb. 02, 1999
Publication date： Aug. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 シリカゲル表面近傍の酸化チタン濃度を高くし,中心部の酸化チタン濃度を低くなるように濃度勾配を設けることにより,空気中の悪臭や有害物質,あるいは水中に含まれている有機溶剤,農薬などの環境汚染物質などを分解する性能を向上させ,しかも安全性,経済性,安定性,耐水性(水に入れても割れない)という観点からも優れた特性を有する光触媒高担持シリカゲルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 平均細孔径が6〜100nmの範囲にあるシリカゲルの表面近傍の細孔内に含ませる酸化チタン量を7〜70重量%とし,かつ当該酸化チタン量を当該シリカゲル中心部付近の細孔内に含ませる酸化チタン量の1.5倍以上となるように濃度勾配を持たせたことを特徴とする酸化チタン光触媒高担持シリカゲル。

Claim (excerpt)：

平均細孔径が6〜100nmの範囲にあるシリカゲルの表面近傍の細孔内に含ませる酸化チタン量を7〜70重量%とし,かつ当該酸化チタン量を当該シリカゲル中心部付近の細孔内に含ませる酸化チタン量の1.5倍以上となるように濃度勾配を持たせたことを特徴とする酸化チタン光触媒高担持シリカゲル。

IPC (4)：

B01J 21/08 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/04 101 ,  B01J 37/08

FI (5)：

B01J 21/08 M ,  B01J 21/08 A ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/04 101 ,  B01J 37/08

F-Term (20)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA05 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA05 ,  4G069EC10X ,  4G069EC10Y ,  4G069FB14 ,  4G069FB18 ,  4G069FC08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-296435
  
• 特開平4-317742