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J-GLOBAL ID：200903084812765242

プラズマ処理装置

Inventor： 師岡 久雄 ,  山田 寛 ,  森 勇藏
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社 ,  森 勇藏
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000020715
Publication number (International publication number)：2001214275
Application date： Jan. 28, 2000
Publication date： Aug. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】 回転電極を用いるプラズマ処理装置において、プラズマ生成領域付近に反応ガスを効率的に閉じ込めることを可能とする。【解決手段】 ロール状の回転電極1を反応容器10内に有し、回転電極1に高周波または直流電力を印加することにより回転電極1近傍にプラズマ4を発生させ、このプラズマ4を利用して、回転電極1周面に対向して配置した基板2上への薄膜の堆積、前記基板2の処理および回転電極1周面のクリーニングから選択される少なくとも1種のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、回転電極1の周面と、反応容器10の壁面と、これらの間に設けられた2つの遮断部材5、6とにより、基板2近傍の空間が区画されて処理空間20A、20Bを形成しており、前記遮断部材5、6が、回転電極1周面と接するローラ51A、51B、61を含むプラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

ロール状であってその軸方向を回転軸として回転する回転電極を反応容器内に有し、回転電極に高周波または直流電力を印加することにより回転電極近傍にプラズマを発生させ、このプラズマを利用して、回転電極周面に対向して配置した基板上への薄膜の堆積、前記基板の処理および回転電極周面のクリーニングから選択される少なくとも1種のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、回転電極の周面と、反応容器の壁面と、これらの間に設けられた2つの遮断部材とにより、基板近傍の空間が区画されて処理空間を形成しており、前記遮断部材が、回転電極周面と接するローラを含むプラズマ処理装置。

IPC (4)：

C23C 16/503 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/205 ,  C23F 4/00

FI (4)：

C23C 16/503 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/205 ,  C23F 4/00 A

F-Term (17)：

4K030AA04 ,  4K030AA05 ,  4K030AA06 ,  4K030BA30 ,  4K030FA01 ,  4K030KA16 ,  4K030KA30 ,  4K057DA01 ,  4K057DA20 ,  4K057DD01 ,  4K057DM06 ,  4K057DM37 ,  5F045AA08 ,  5F045BB14 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EF17