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J-GLOBAL ID：200903084835304501
X線断層撮影方法及びX線断層撮影装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995165362
Publication number (International publication number)：1997010201
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 14, 1997
Summary：
【要約】【目的】 ガントリをチルトさせた状態でのスキャンにおいてスライス面の重なりを生じることのないテーブル・ガントリ制御を実行することが可能なX線断層撮影方法及びX線断層撮影装置を実現する。【構成】 測定空間にX線を照射し、この測定空間に載置された被検体を透過して入射するX線をn列のX線検出列で検出する際に、X線の照射及び検出を体軸に垂直な面に対してθだけ傾けた状態のガントリで行い、スライス厚tのX線の焦点を被検体の回りを回転させながら、被検体の体軸方向に対してガントリ1回転あたりの速度nt/cosθでガントリと被検体とを体軸方向に相対的に移動させる(ステップ3)ことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
測定空間にX線を照射し、この測定空間に載置された被検体を透過して入射するX線をn列のX線検出列で検出する際に、X線の照射及び検出を体軸に垂直な面に対してθだけ傾けた状態のガントリで行い、スライス厚tのX線の焦点を被検体の回りを回転させながら、被検体の体軸方向に対してガントリ1回転あたりの速度nt/cosθでガントリと被検体とを体軸方向に相対的に移動させることを特徴とするX線断層撮影方法。
IPC (2)：
A61B 6/03 321
, A61B 6/03 323
A61B 6/03 321 K
, A61B 6/03 323 A
