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J-GLOBAL ID:200903084843872861
擬位相整合パラメトリックチャ-プパルス増幅システム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999203268
Publication number (International publication number):2000089266
Application date: Jul. 16, 1999
Publication date: Mar. 31, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】高エネルギ超短光パルスのコンパクトな増幅器を提供する。【解決手段】前もって決められた幅の光ポンプパルスを発生するポンプ光源100と、光シグナルパルスを発生するシグナル光源130と、光ポンプパルスと光シグナルパルスを受けて結合し、それによって結合した光パルスを供給するための結合光学系160と、結合した光パルスを受けて光ポンプパルスのエネルギを使って光シグナルパルスを増幅する擬位相整合結晶からなるパラメトリック増幅器170と、前記増幅器の増幅出力を受けて、出力を明示された位置に適用する応用ユニットと、からなる光パルス増幅、発射システムで達成される。好ましくは、光パルス増幅発射システムと、パラメトリック増幅器で増幅された光シグナルパルスを受けて圧縮する圧縮器180と、からなるチャープパルス増幅、発射システムで構成される。
Claim (excerpt):
前もって決められた幅の光ポンプパルスを発生するポンプ光源と、光シグナルパルスを発生するシグナル光源と、光ポンプパルスと光シグナルパルスを受けて結合し、それによって結合した光パルスを供給するための結合光学系と、結合した光パルスを受けて光ポンプパルスのエネルギを使って光シグナルパルスを増幅する擬位相整合結晶からなるパラメトリック増幅器と、前記増幅器の増幅出力を受けて、前記出力を明示された位置に適用する応用ユニットと、からなる光パルス増幅、発射システム。
IPC (7):
G02F 1/35 501
, G02F 1/39
, H01S 3/108
, H04B 10/152
, H04B 10/142
, H04B 10/04
, H04B 10/06
FI (4):
G02F 1/35 501
, G02F 1/39
, H01S 3/108
, H04B 9/00 L
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