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J-GLOBAL ID:200903084847508277

薄膜形成装置用部材の製造方法および該装置用部材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小越 勇 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997157351
Publication number (International publication number):1998330971
Application date: Jun. 02, 1997
Publication date: Dec. 15, 1998
Summary:
【要約】【課題】 薄膜形成装置の内部を汚染させることなく、薄膜形成装置の内壁や装置の内部にある機器部材の表面に形成された堆積物の剥離を防止し、パーティクルの発生を抑制する技術の提供。【解決手段】 薄膜形成装置の内壁や装置の内部にある部材の一部の面または全面の不要な薄膜の堆積が生ずる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、マスキングを除去することにより形成した複数の凹凸を備える薄膜形成装置用部材の製造方法および薄膜形成装置用部材。
Claim (excerpt):
薄膜形成装置の内壁または装置内にある部材の一部の面または全面の不要な薄膜の堆積が生ずる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、前記マスキングを除去して複数の凹凸を形成することを特徴とする薄膜形成装置用部材の製造方法。
IPC (3):
C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/00
FI (3):
C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/00 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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