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J-GLOBAL ID：200903084857092982

回折光学素子の製造方法及び光ピックアップヘッド装置

Inventor： 五十嵐 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997008865
Publication number (International publication number)：1998208279
Application date： Jan. 21, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：

【要約】【課題】 0次光×1次光の光利用効率を向上させることができるブレ-ズ回折光学素子を提供すること。【解決手段】 基板に塗布されたレジストをピッチ形状のレジストパタ-ンに形成し、この形成されたピッチ形状のレジストをマスクとしてエッチングし、このエッチングされた基板に重金属膜を形成し、この溝を埋めるように上記基板上にレジスト膜を形成し、この溝に対して所定の入射角をもつようにX線を照射し、この溝に残されたレジストパタ-ンから無電解メッキ等により型を製作し、射出成形により回折光学素子を製作するようにしている。

Claim (excerpt)：

基板上にレジストを塗布するレジスト塗布工程と、このレジスト塗布工程により塗布されたレジストをピッチ形状のレジストパタ-ンに形成するレジストパタ-ン形成工程と、このレジストパタ-ン形成工程で形成されたピッチ形状のレジストをマスクとして基板をエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程でエッチングされた基板に重金属膜を形成する重金属膜形成工程と、上記レジストにより溝を埋めるレジスト膜形成工程と、上記溝に対して所定の入射角をもつようにX線を照射するX線照射工程と、上記溝に残されたレジストパタ-ンから無電解メッキ等により型を製作し、この型を用いて射出成形により回折光学素子を製作する光学素子形成工程とを具備したことを特徴とする回折光学素子の製造方法。

IPC (2)：

G11B 7/135 ,  G11B 11/10 551

FI (2)：

G11B 7/135 A ,  G11B 11/10 551 D