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J-GLOBAL ID：200903084861526598
プラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
土井 育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992206985
Publication number (International publication number)：1994036683
Application date： Jul. 13, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：
【要約】【目的】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【構成】 基板1上に予め障壁パターン或いは電極パターンを形成するパターン形成材料2を所定の膜厚で塗布し、その上から耐サンドブラスト性を有する印刷ペーストを用いて印刷法により所望パターンのサンドブラスト用マスク3を形成した後、該サンドブラスト用マスク3を介してサンドブラスト4により不要部分を除去することで目的とする目的とする障壁パターン或いは電極5パターンを得る。1回の操作により100μm以上のパターンが得られる。マスク3を介してのサンドブラスト処理により厚膜パターンの輪郭が形成されるので、線幅精度が良好となる。
Claim (excerpt)：
プラズマディスプレイ基板上に障壁パターンを形成するパターン形成材料を予め所定の膜厚で塗布し、その上から耐サンドブラスト性を有する印刷ペーストを用いて印刷法により所望パターンのサンドブラスト用マスクを形成した後、該サンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とする障壁パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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