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J-GLOBAL ID：200903084880804922
電子放出素子および画像形成装置の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994209383
Publication number (International publication number)：1996055573
Application date： Aug. 11, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：
【要約】【目的】 電子放出部形成用薄膜の減少を抑え、また素子特性のバラツキの少ない電子放出素子及び画像形成装置の製造方法を提供する。【構成】 基板上の対向する電極間に有機金属化合物からなる薄膜を設け、該薄膜を熱処理して金属微粒子膜または金属酸化物微粒子膜とした後、通電処理して薄膜に電子放出部を形成する表面伝導型電子放出素子の製造方法において、基板の少なくとも有機金属化合物からなる薄膜と接触する表面が酸化アルミニウムからなる電子放出素子の製造方法及び複数の電子放出素子を有する画像形成装置の製造方法。有機金属化合物の金属水酸化物又は酸化物と低温揮発性有機物への加水分解を、基板表面に設けた酸化アルミニウムの触媒作用を用いて、低温で化学的に促進することによって、薄膜の膜厚の減少を抑える。
Claim (excerpt)：
基板上の対向する電極間に有機金属化合物からなる薄膜を設け、該薄膜を熱処理して金属微粒子膜または金属酸化物微粒子膜とした後、通電処理して薄膜に電子放出部を形成する表面伝導型電子放出素子の製造方法において、基板の少なくとも有機金属化合物からなる薄膜と接触する表面が酸化アルミニウムからなることを特徴とする電子放出素子の製造方法。
IPC (2)：
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