Pat

J-GLOBAL ID：200903084894222810

超音波洗浄方法

Inventor： 正木 広志 ,  妻木 伸夫 ,  佐原 輝隆
Applicant, Patent owner： 株式会社日立プラントテクノロジー
Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006083993
Publication number (International publication number)：2007253120
Application date： Mar. 24, 2006
Publication date： Oct. 04, 2007
Summary：

【課題】 汚染有機物の除去性能を高めることができる超音波洗浄方法を提供する。【解決手段】洗浄ヘッド11のスリット19を介して基板Aに、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、スリット19に向けて集束するように超音波を照射させて基板Aの洗浄を行なう。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

洗浄用ヘッド本体に形成されたスリットを介して被洗浄物に、マイクロバブルを含んだ洗浄液を供給するとともに、前記スリットに向けて集束するように超音波を照射させて被洗浄物の洗浄を行なうことを特徴とする超音波洗浄方法。

IPC (3)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/10

FI (3)：

B08B3/12 Z ,  H01L21/304 643D ,  B08B3/10 Z

F-Term (9)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB85 ,  3B201BB88 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-327753   Applicant：株式会社荏原製作所