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J-GLOBAL ID：200903084909638717
プラズマエッチング装置のエッチングモニタ
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992279683
Publication number (International publication number)：1994132251
Application date： Oct. 19, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】プラズマエッチング装置のエッチング処理結果をモニタし、その情報を処理装置に送り、処理条件を適切に修正することにより、処理の特性を一定に維持し、不良の発生を防止する。【構成】エッチング処理の結果をウェハ1枚毎にモニタし、そのモニタ結果が検査条件に対して合格か不合格かを判定する。不合格の場合には処理装置が適切な処理条件の修正を行い、処理特性を回復させる。【効果】プラズマエッチング装置の処理特性を一定に維持できるため不良の発生を防止でき、生産性および歩留まりが向上する。
Claim (excerpt)：
真空を保持する構造を有する処理室と該処理室にエッチングガスを導入する手段と該処理室内にプラズマを発生維持する手段を有するプラズマエッチング装置のエッチングモニタにおいて、ウェハのエッチング処理特性を監視する手段を設けたことを特徴とするプラズマエッチング装置のエッチングモニタ。
IPC (2)：
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