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J-GLOBAL ID:200903084913486522

重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006042079
Publication number (International publication number):2007219362
Application date: Feb. 20, 2006
Publication date: Aug. 30, 2007
Summary:
【課題】硬化速度が速く、かつ非常に鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、なおかつ基板との密着性に優れた、アルカリ現像性を有するネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(1)で表される光ラジカル重合開始剤(A)、カルバゾール系増感剤(B)、ラジカル重合性化合物(C)、アルカリ可溶性樹脂(D)、およびチオール化合物(E)を含んでなる重合性組成物。 一般式(1)(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に、1価の有機残基を表す。R3は水素原子もしくは1価の有機残基を表す。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表される光ラジカル重合開始剤(A)、下記一般式(2)で表される増感剤(B)、ラジカル重合性化合物(C)、アルカリ可溶性樹脂(D)、およびチオール化合物(E)を含んでなる重合性組成物。 一般式(1)
IPC (6):
G03F 7/031 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  C08F 2/50 ,  C08F 4/00
FI (6):
G03F7/031 ,  G03F7/004 503Z ,  H01L21/30 502R ,  H05K3/00 F ,  C08F2/50 ,  C08F4/00
F-Term (20):
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17 ,  4J011SA78 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J015EA03 ,  4J015EA04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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