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J-GLOBAL ID：200903084921904562

ドライエッチング装置

Inventor： 尾藤 陽二 ,  中川 聡
Applicant, Patent owner： 松下電子工業株式会社
Agent (1)： 宮井 暎夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993099138
Publication number (International publication number)：1994306648
Application date： Apr. 26, 1993
Publication date： Nov. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】装置の稼動率を高く維持することができるとともに、ドライクリーニング時の残留ガスがウエハのエッチングに影響を与えるのを防止できるドライエッチング装置を提供する。【構成】エッチングガス吹出口33および排気口37を有するエッチングチャンバ31と、エッチングガス吹出口33側に設置されたウエハ36をエッチングするエッチング用電極32,35と、エッチングガス吹出口33側に設置されて反応生成物が付着するのを防止するヒータ38,39と、排気口37側に設置されて反応生成物を付着させるクーリング部(40)と、このクーリング部の反応生成物を除去するドライクリーニング電極44とを備えている。

Claim (excerpt)：

エッチングガス吹出口および排気口を有するエッチングチャンバと、前記エッチングガス吹出口側に設置されたウエハをエッチングするエッチング用電極と、前記エッチングガス吹出口側に設置されて前記ウエハ以外の部位に反応生成物が付着するのを防止するヒータと、前記排気口側に設置されて反応生成物を付着させるクーリング部と、このクーリング部の反応生成物を除去するドライクリーニング電極とを備えたドライエッチング装置。

IPC (2)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/302