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J-GLOBAL ID：200903084960526222

ウエハ保持装置及びウエハ収納カセット

Inventor： 村岡 祐介 ,  北澤 裕之
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小野 由己男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993072069
Publication number (International publication number)：1994283486
Application date： Mar. 30, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 パーティクルの発生を抑えかつ静電気の残留を防止する。【構成】 ウエハ保持装置19は、半導体用のウエハを処理するウエハ乾燥部6に設けられ、ウエハを保持するものであって、ウエハ保持部25と導電部材31と支持部材28を含む接地部材とを備えている。ウエハ保持部25は、ウエハの外周端面が接触する保持面を有する絶縁体製のものである。導電部材31は、ウエハ保持部25の保持面に、ウエハに接触可能に配置されている。接地部材は、導電部材31を接地する。

Claim (excerpt)：

半導体用のウエハを処理するウエハ処理装置に設けられた、前記ウエハを保持するウエハ保持装置であって、前記ウエハの外周が接触する保持溝を有する絶縁体製のウエハ保持部と、前記保持溝の保持面に、前記ウエハの外周端面に接触可能に配置された導電部材と、前記導電部材を接地するための接地部材と、を備えたウエハ保持装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  B65D 85/00 ,  B65D 85/57 ,  H01L 21/68