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J-GLOBAL ID：200903084973244641

搬送空間の高清浄化システム

Inventor： 井上 正憲 ,  稲葉 仁 ,  吉田 隆紀 ,  五味 弘
Applicant, Patent owner： 高砂熱学工業株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995212850
Publication number (International publication number)：1997042727
Application date： Jul. 27, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 半導体ウェハ、ULSI、液晶ディスプレイ等の精密電子部品の如き被処理体を搬送するための搬送空間に好適な、粒子汚染の防止と化学汚染を防止の両方が可能な高清浄化システムを提供する。【解決手段】 被処理体Wの搬送路の周囲を隔壁4で仕切ることにより系外空気の混入のない搬送空間5を形成したシステムであって、搬送空間5に対して系外空気を供給する系外空気供給回路10と搬送空間5内の雰囲気を循環供給するレタン回路12を構成して、それら系外空気供給回路10およびレタン回路12から搬送空間5内に空気を供給する送風機8と、それら系外空気供給回路10およびレタン回路12から搬送空間5内に供給される空気を清浄化させるためのガス除去フィルタ13、14と粒子除去用高性能フィルタ7を設け、かつ、搬送空間5内を系外よりも高圧に保ちつつ搬送空間5内の雰囲気を系外に排気する排気口16を設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理体の搬送路の周囲を隔壁で仕切ることにより系外空気の混入のない搬送空間を形成したシステムであって、該搬送空間に対して系外空気を供給する系外空気供給回路と搬送空間内の雰囲気を循環供給するレタン回路を構成して、それら系外空気供給回路およびレタン回路から搬送空間内に空気を供給する送風機と、それら系外空気供給回路およびレタン回路から搬送空間内に供給される空気を清浄化させるためのガス除去フィルタと粒子除去用高性能フィルタを設け、かつ、搬送空間内を系外よりも高圧に保ちつつ搬送空間内の雰囲気を系外に排気する排気口を設けたことを特徴とする搬送空間の高清浄化システム。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-062740
  
• 特開昭62-182541
  
• 特開昭61-062740
  
• 特開昭62-182541