Pat

J-GLOBAL ID：200903084994309760

レジスト組成物

Inventor： 大畑 正敏 ,  山本 正治
Applicant, Patent owner： 日本ペイント株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991256398
Publication number (International publication number)：1993188596
Application date： Oct. 03, 1991
Publication date： Jul. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 光照射に対して感度の高いレジスト組成物の提供。【構成】 本発明は、(a)t-ブチル基、ベンジル基、α-メチルベンジル基、α,α'-ジメチルベンジル基およびトリチル基から成る群から選択される基を有する(メタ)アクリル酸エステルを必須モノマー成分とし、かつ、シアノ基を含まない重合体および(b)放射にさらされたときに酸を生じる光活性剤を含有するレジスト組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

(a)t-ブチル基、ベンジル基、α-メチルベンジル基、α,α'-ジメチルベンジル基およびトリチル基から成る群から選択される基を有する(メタ)アクリル酸エステルを必須モノマー成分とし、かつ、シアノ基を含まない重合体および(b)放射にさらされたときに酸を生じる光活性剤を含有するレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027