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J-GLOBAL ID:200903084999537515
面位置検出方法、面位置検出装置、合焦装置、露光装置及びデバイスの製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003063598
Publication number (International publication number):2004273828
Application date: Mar. 10, 2003
Publication date: Sep. 30, 2004
Summary:
【課題】透過性基板からの反射光のなかに、表面からの反射光のみならず、裏面からの反射光が含まれる場合であっても、透過性基板の表面の高さ情報を正確に検出する面位置検出方法を提供することを目的とする。【解決手段】透過性基板の被検面に対して斜め方向から光を投射し、透過性基板Wからの反射光を受光することにより透過性基板の面位置情報を検出する面位置検出方法において、透過性基板からの反射光のなかから被検面で反射した被検面反射光を反射光の強度分布Dに基づいて特定して透過性基板の面位置情報を検出する。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
透過性基板の被検面に対して斜め方向から光を投射し、該透過性基板からの反射光を受光することにより該透過性基板の面位置情報を検出する面位置検出方法において、
前記透過性基板からの反射光のなかから前記被検面で反射した被検面反射光を該反射光の強度分布に基づいて特定して該透過性基板の面位置情報を検出することを特徴とする面位置検出方法。
IPC (3):
H01L21/027
, G01B11/00
, G03F9/00
FI (3):
H01L21/30 526B
, G01B11/00 B
, G03F9/00 H
F-Term (27):
2F065AA20
, 2F065AA24
, 2F065CC20
, 2F065CC25
, 2F065FF10
, 2F065FF44
, 2F065GG24
, 2F065HH06
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065LL13
, 2F065LL28
, 2F065LL46
, 2F065NN08
, 2F065NN20
, 2F065PP12
, 2F065QQ17
, 2F065QQ23
, 2F065QQ29
, 2F065QQ38
, 5F046BA04
, 5F046DA05
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DB14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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面位置検出方法及びそれを用いた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-212199
Applicant:キヤノン株式会社
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特開昭62-182612
-
特開平4-044210
-
位置検出方法、位置検出装置、露光方法、露光装置、記録媒体、及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-360895
Applicant:株式会社ニコン
-
パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-258234
Applicant:株式会社ナノジオメトリ研究所
-
位置検出方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-291651
Applicant:キヤノン株式会社
-
画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-112105
Applicant:新光電気工業株式会社
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