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J-GLOBAL ID：200903085006092676

イオン源

Inventor： 大川 貴子 ,  日良 康夫 ,  鳥羽 環 ,  今山 寛隆
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994266545
Publication number (International publication number)：1996129982
Application date： Oct. 31, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】【構成】引き出し電極の孔の開口部分の割合を電極の中心からの距離に応じて変化させる。【効果】均一なイオンビームが引き出せるイオン源が得られる。このイオン源をエッチング装置、ミリング装置、イオン打ち込み装置等に適用することにより加工精度が向上する。

Claim (excerpt)：

プラズマ室の一側に引き出し電極を配置したイオン源において、前記引き出し電極に中心からの距離に依り開口面積の割合が変化するように小孔を設けたことを特徴とするイオン源。

IPC (2)：

H01J 37/08 ,  H01J 27/02