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J-GLOBAL ID：200903085007009985

真空吸着装置

Inventor： 佐々木 俊一 ,  石野 智浩 ,  森 正弘 ,  石井 守 ,  塩貝 達也
Applicant, Patent owner： 株式会社日本セラテック ,  太平洋セメント株式会社
Agent (1)： 高山 宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003077520
Publication number (International publication number)：2004283936
Application date： Mar. 20, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】被吸着物を吸着する面に段差による不都合が生じず、かつ湿式加工を行う場合でも被吸着物の被吸着面にシミ等が発生しない真空吸着装置を提供すること。【解決手段】被吸着物10を載置し、吸着面2aが研磨加工により形成される載置部材2と、載置部材2の周囲および下面を支持する支持部材3と、載置部材2の裏面側に設けられた吸引部4とを具備し、吸引部4から吸引することにより載置部材2に載置された被吸着物10を載置部材2に真空吸着させる真空吸着装置1において、載置部材2は、被吸着物10の中央部を支持する多孔質セラミックスからなる中央部材5と、中央部材5の周囲に設けられ、被吸着物10の周縁部を支持する緻密質快削性セラミックスからなる周縁部材6とを有する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

被吸着物を載置し、吸着面が研磨加工により形成される載置部材と、前記載置部材の裏面側に設けられた吸引部とを具備し、吸引部から吸引することにより前記載置部材に載置された被吸着物を前記載置部材に真空吸着させる真空吸着装置であって、 前記載置部材は、被吸着物の中央部を支持する多孔質セラミックスからなる中央部材と、前記中央部材の周囲に設けられ、被吸着物の周縁部を支持する緻密質快削性セラミックスからなる周縁部材とを有することを特徴とする真空吸着装置。

IPC (5)：

B24B37/04 ,  B23Q3/08 ,  B25J15/06 ,  H01L21/304 ,  H01L21/68

FI (5)：

B24B37/04 H ,  B23Q3/08 A ,  B25J15/06 G ,  H01L21/304 622H ,  H01L21/68 P

F-Term (22)：

3C007AS12 ,  3C007AS24 ,  3C007DS01 ,  3C007FS01 ,  3C007FT10 ,  3C007FU00 ,  3C007NS12 ,  3C007NS13 ,  3C016DA05 ,  3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058AB09 ,  3C058CB02 ,  3C058DA17 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA13 ,  5F031HA48 ,  5F031MA22 ,  5F031PA14