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J-GLOBAL ID:200903085029396508

組織再生のための複合体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000575451
Publication number (International publication number):2002527144
Application date: Oct. 12, 1999
Publication date: Aug. 27, 2002
Summary:
【要約】材料、マクロアーキテクチャ、ミクロアーキテクチャ、機械的特性のうちの1つ以上の勾配を有する組織操作デバイスを提供する。これは移植前後でのデバイスにおける特定の細胞型の接着を選択または促進するために使用され得る。勾配が、1つの型の組織に最良に適した材料から構成されるまたはその特性を有する領域から、異なる型の組織に適した材料から構成されるまたはその特性を有する領域への移行帯を形成する。このデバイスは、構造的完全性および独特な材料の勾配を付与する連続プロセスで作製される。デバイスは、固形自由造形プロセス、特に三次元プリンティングプロセス(3DPTM)を使用して作製される。デバイスを単一の連続プロセスで製造し得、その結果1つの形態の組織再生足場と他の形態の組織再生足場からの移行は「継ぎ目」を有さない。このデバイスが生理学的溶液中に移植されると、軸に沿った差次的膨張に供されない。
Claim (excerpt):
固形自由造形製作により形成された、組織操作のための多孔性デバイスであって、以下: 第1細胞型の接着、増殖、および/または分化を促進するように選択された、第1の孔サイズ、孔隙率、マクロアーキテクチャ、ミクロアーキテクチャ、および組成を有する、第1領域、 該第1領域に継ぎ目なしで連結された第2領域であって、該第2領域は、(i)第2細胞型の接着、増殖、および/または分化を促進するようにか、または(ii)該第1細胞型または該第2細胞型のいずれかの接着または増殖を制限するように選択された、第2の孔サイズ、孔隙率、マクロアーキテクチャ、ミクロアーキテクチャ、および/または組成を有する、第2領域、を含み、ここで該第1領域および該第2領域の各々は、層剥離を回避するように適合した孔サイズ、孔隙率、マクロアーキテクチャ、ミクロアーキテクチャ、および/または組成の勾配を有する、多孔性デバイス。
IPC (2):
A61F 2/28 ,  A61L 27/00
FI (5):
A61F 2/28 ,  A61L 27/00 G ,  A61L 27/00 J ,  A61L 27/00 V ,  A61L 27/00 Y
F-Term (25):
4C081AB02 ,  4C081AB03 ,  4C081AB04 ,  4C081BA16 ,  4C081BB07 ,  4C081BB08 ,  4C081CA15 ,  4C081CA16 ,  4C081CA17 ,  4C081CD01 ,  4C081CE02 ,  4C081CF02 ,  4C081CF03 ,  4C081DB03 ,  4C097AA01 ,  4C097BB01 ,  4C097CC01 ,  4C097CC03 ,  4C097DD02 ,  4C097DD07 ,  4C097DD15 ,  4C097EE08 ,  4C097EE16 ,  4C097FF05 ,  4C097SC00

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