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J-GLOBAL ID：200903085033926503

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  河辺 保雅
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995150639
Publication number (International publication number)：1997005994
Application date： Jun. 16, 1995
Publication date： Jan. 10, 1997
Summary：

【要約】【目的】 高い解像力、広いデフォーカスラチチユードを有するとともに、得られるレジスト像が耐熱性に優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 特定のフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び特定の芳香族アルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物とを含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるフェノール化合物と、ホルムアルデヒド及び下記一般式(2)で示される芳香族アルデヒド化合物とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂と、1,2-キノンジアジド化合物とを含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】ここで、R1 〜R3 :同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基もしくはアリールカルボニル基、R4 〜R8 :同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ホルミル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、-NHCO-R9 、-NHCOO-R9 、-NHCONH-R9 、-CONH-R9 、-CONHCO-R9 、R9 :アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、もしくはアラルキル基である。ただし、R4 〜R8 のうち少なくとも1つは、-NHCO-R9 、-NHCOO-R9 、-NHCONH-R9 、-CONH-R9 、-CONHCO-R9 から選ばれる置換基のいずれかである。

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R