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J-GLOBAL ID:200903085038874714

光酸化触媒およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000188301
Publication number (International publication number):2002001126
Application date: Jun. 22, 2000
Publication date: Jan. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光触媒の支持体上への密着性を向上させ、かつ塗布、焼成工程を簡略化した光触媒と、その製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 支持体2と、該支持体2上に少なくとも金属酸化物前駆体を含むゾル溶液を塗布および焼成してなる金属酸化物焼成体層とを有する光酸化触媒であって、該金属酸化物焼成体層4が、緻密な構造を有する金属酸化物層である高密度金属酸化物層41と多孔質の金属酸化物層である低密度金属酸化物層42とからなる光酸化触媒、およびその製造方法。
Claim (excerpt):
支持体と、該支持体上に少なくとも金属酸化物前駆体を含むゾル溶液を塗布および焼成してなる金属酸化物焼成体層とを有する光酸化触媒であって、該金属酸化物焼成体層が、その断面構造において、支持体側よりも表面側の方が疎である構造を有する金属酸化物であることを特徴とする光酸化触媒。
IPC (4):
B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/08
FI (4):
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/02 301 M ,  B01J 37/08 ,  B01D 53/36 J
F-Term (61):
4D048AA21 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA07X ,  4D048BA10X ,  4D048BA13X ,  4D048BA15Y ,  4D048BA16Y ,  4D048BA21Y ,  4D048BA23Y ,  4D048BA27Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB03 ,  4D048BB16 ,  4D048BB17 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA03A ,  4G069BA03B ,  4G069BA14B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB08C ,  4G069BB12C ,  4G069BC12A ,  4G069BC12C ,  4G069BC22A ,  4G069BC22C ,  4G069BC35A ,  4G069BC35C ,  4G069BC50A ,  4G069BC50C ,  4G069BC54A ,  4G069BC54C ,  4G069BC60A ,  4G069BC60C ,  4G069BD12C ,  4G069BE06C ,  4G069BE08C ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA11 ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EC28 ,  4G069EC29 ,  4G069ED03 ,  4G069EE06 ,  4G069FA03 ,  4G069FB08 ,  4G069FB14 ,  4G069FB23 ,  4G069FB24 ,  4G069FB30 ,  4G069FB33 ,  4G069FB34 ,  4G069FB78
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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