処理装置および処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高山宏志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997305034
Publication number (International publication number)：1999008192
Application date： Jul. 30, 1993
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】被処理体の裏面側への処理液の侵入を阻止するとともに、高速回転しても被処理体を傷つけることのない処理装置および処理方法を提供すること。【解決手段】処理装置は、被処理体Wを回転させる機構16と、被処理体Wの表面に処理液を供給する機構37と、被処理体Wの裏面側に設けられ、その先端26に溝部を有する被処理体より小径の筒体25と、筒体25を昇降して筒体25および被処理体Wを近接または離間させる駆動機構17と、溝部42に液体を供給する液体供給手段41とを具備している。筒体25は、被処理体Wを停止または低速回転させる期間は筒体25と被処理体Wとの間を近接させ、被処理体Wを高速回転させる期間は筒体25と被処理体Wとの間を離間させ、筒体25が被処理体Wに近接した状態において、溝部42に供給された液体を筒体25と被処理体Wとの間に保持させる。

Claim (excerpt)：

被処理体を回転させる機構と、前記被処理体の表面に処理液を供給する機構と、前記被処理体の裏面側に設けられ、その先端に溝部を有する被処理体より小径の筒体と、前記筒体と被処理体との間に相対移動を生じさせて、これらを近接または離間させる駆動機構と、前記溝部に液体を供給する液体供給手段とを具備し、前記筒体は、被処理体を停止または低速回転させる期間は前記筒体と被処理体との間を近接させ、前記被処理体を高速回転させる期間は前記筒体と被処理体との間を離間させ、かつ前記筒体が被処理体に近接した状態において、前記溝部に供給された液体を前記筒体と被処理体との間に保持させることを特徴とする処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/30

FI (2)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平4-192514
特開昭63-006843
特開昭56-035420

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