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J-GLOBAL ID：200903085047767874
薄膜エレクトロルミネツセンス素子の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991317005
Publication number (International publication number)：1993152071
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】シリコーンオイルを焼成してなる撥水層による防水効果を充分に発揮でき、特に、この製造方法により透過型のものを製造する場合でも透過状態で像を歪ませない軽量の薄膜EL素子を容易に製造する。【構成】第1透明ガラス基板1上に第1電極層11、第1絶縁層12、発光層13、第2絶縁層14及び第2電極層15の形成層10を形成し、この形成層10上にSiO2 からなる被覆層16を被覆した後、被覆層16上にシリコーンオイルを塗布・焼成して撥水層17を形成する。
Claim (excerpt)：
第1透明ガラス基板上に順次積層された第1電極層、第1絶縁層、発光層、第2絶縁層及び第2電極層が含まれる形成層を形成し、該形成層上にSiO2 からなる被覆層を被覆する第1工程と、該被覆層上にシリコーンオイルを塗布し、該シリコーンオイルを焼成して撥水層を形成する第2工程と、からなることを特徴とする薄膜エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (2)：
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