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J-GLOBAL ID:200903085055426466

排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992002888
Publication number (International publication number):1993184876
Application date: Jan. 10, 1992
Publication date: Jul. 27, 1993
Summary:
【要約】【目的】 還元性から酸化性まで幅広く組成が変動する排ガスを高い浄化率で処理できる排ガス浄化用触媒を得る。【構成】 パラジウムを担持した酸化セリウムとパラジウムを担持したアルミナからなるコート層またはこのコート層上にロジウムを担持したアルミナしら成るコート層を備え、酸化セリウムに担持されたパラジウムとアルミナに担持されたパラジウムの重量比が2:8〜8:2であって、上記酸化セリウムにはジルコニウム、ランタン、ネオジウムおよびプラセオジウムより成る群から選ばれた少なくとも1種が添加あるいは複合化されているかまたは上記アルミナにはジルコニウム、ランタン、ネオジウム、セリウム、ストロンチウムおよびバリウムよりなる群から選ばれた少なくとも1種が添加されている排ガス浄化用触媒。
Claim (excerpt):
パラジウムを担持した酸化セリウムとパラジウムを担持したアルミナからなるコート層またはこのコート層上にロジウムを担持したアルミナから成るコート層を備え、酸化セリウムに担持されたパラジウムとアルミナに担持されたパラジウムの重量比が2:8〜8:2であって、上記酸化セリウムにはジルコニウム、ランタン、ネオジウムおよびプラセオジウムより成る群から選ばれた少なくとも1種が添加あるいは複合化されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (3):
B01D 53/36 104 ,  B01J 23/38 ,  B01J 23/56 301
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-111441
  • 特開昭63-007840

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