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J-GLOBAL ID：200903085070354110

光ディスクの製造方法

Inventor： 吉田 美喜男 ,  深谷 正栄
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992315730
Publication number (International publication number)：1994150402
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光ディスク基板上に紫外線硬化樹脂をスピンコートして保護膜を形成する際のムラの発生を防止し、品質の高い光ディスクを製造可能とする。【構成】 光ディスク上に樹脂供給部より樹脂を供給した後、光ディスクを回転しながら高速振切部へと移送する。しかる後、高速回転により紫外線硬化樹脂のスピンコートを行い保護膜を形成する。移送の際の光ディスクの回転数は5〜300rpmである。

Claim (excerpt)：

樹脂供給部にて光ディスク上に樹脂を供給した後、上記光ディスクを高速振切部に移送して高速振切を行う光ディスクの製造方法において、光ディスクを回転させながら樹脂供給部から高速振切部に移送することを特徴とする光ディスクの製造方法。