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J-GLOBAL ID：200903085095305416

液体の処理方法及びその装置

Inventor： 足立 成人 ,  芳賀 潤二 ,  三浦 雅彦
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001256345
Publication number (International publication number)：2003062579
Application date： Aug. 27, 2001
Publication date： Mar. 04, 2003
Summary：

【要約】【課題】 放電経路を確保するために消費される電気エネルギーを低減して、液体を高効率に放電処理する方法及び装置を提供する。【解決手段】 高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させ、高電圧パルス印加領域に存在する被処理液を処理する方法及び装置において、高電圧パルス印加領域への導入に先立って、該被処理液に気体を供給する。

Claim (excerpt)：

高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させ、高電圧パルス印加領域に存在する被処理液を処理する方法において、該高電圧パルス印加領域への導入に先立って、該被処理液に気体を供給し、該高電圧パルス印加領域に気泡を存在させることを特徴とする液体の処理方法。

IPC (11)：

C02F 1/48 ,  B01F 3/04 ,  B01J 19/08 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/74 ,  C02F 1/78

FI (13)：

C02F 1/48 B ,  B01F 3/04 A ,  B01J 19/08 B ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 C ,  C02F 1/50 520 P ,  C02F 1/50 531 B ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 1/74 Z ,  C02F 1/78

F-Term (36)：

4D050AA03 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AB03 ,  4D050AB04 ,  4D050AB13 ,  4D050AB19 ,  4D050BA14 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB01 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC04 ,  4D061DC08 ,  4D061EA13 ,  4D061EB01 ,  4D061EB07 ,  4D061EB17 ,  4D061ED03 ,  4D061ED20 ,  4G035AB05 ,  4G075AA15 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD13 ,  4G075CA15 ,  4G075CA51 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21