洗浄方法および洗浄水の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：岩橋文雄 , 坂口智康 , 内藤浩樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003279823
Publication number (International publication number)：2005045159
Application date： Jul. 25, 2003
Publication date： Feb. 17, 2005
Summary：

【課題】半導体装置基板上に形成された微細なULSIパターンに対し、超音波を用いてもダメージを与えることなく異物を効率よく除去する洗浄方法、及び洗浄水の製造方法を提供する。【解決手段】超音波振動を伝播させる洗浄水として、過飽和濃度かつ多量の気泡を含んだ溶存ガス水を用いて洗浄を行うことにより、多量の気泡が超音波出力を緩和しパターンダメージを防止し、洗浄能力においてはマイクロバブル効果ならびにリフトオフ効果が促進され高い異物除去効果を有する超音波洗浄を行うことができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

少なくとも1種類のガスを飽和濃度以上に溶存せしめた洗浄水に超音波振動を付与して基板を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (1)：

H01L21/304

FI (2)：

H01L21/304 642E , H01L21/304 647Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

半導体集積回路装置の製造方法および製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-230458 Applicant：株式会社日立製作所, 株式会社日立マイコンシステム

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