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J-GLOBAL ID:200903085119205523

黒膜作製装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994054789
Publication number (International publication number):1995241512
Application date: Mar. 02, 1994
Publication date: Sep. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】黒膜製作装置において、小孔の幾何学的形状・小孔表面の化学的性質を制御することにより、再現性の良い安定な黒膜の作製を可能にする。【構成】ガラス基板等の平面性の良い基板に、エッチングなどにより一方の端面が鋭角であるような小孔をあけ、これに疎水化処理を含むパターニングを施す。この平面性の良い鋭角の端面に黒膜を展開すると、エッジのところにリン脂質分子が固定されるため、再現性の良い安定な黒膜が作製できる。
Claim (excerpt):
絶縁性の基板に少なくとも一方の角が鋭角となるような小孔をあけ、ここに黒膜を張ることを特徴とする黒膜作製装置。
IPC (2):
B05C 17/06 ,  C03C 17/28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 二分子膜作製基板
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-054714   Applicant:株式会社東芝
  • 特開平2-035941
  • 特開昭58-143536
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