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J-GLOBAL ID：200903085131283750

露光方法及び露光装置

Inventor： 川島 美代子
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998201333
Publication number (International publication number)：2000021753
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高解像度のパターンが得られる露光方法及び露光装置を得ること。【解決手段】 第1物体面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する投影方法において、該投影光学系の解像力が最も良くなる方向と、該第1物体面上の微細パターンの回折光の出射方向とが一致するようにし、かつ該第2物体を第1物体に対して位置調整して投影露光していること。

Claim (excerpt)：

第1物体面上のパターンを投影光学系により第2物体面上に投影露光する投影方法において、該投影光学系の解像力が最も良くなる方向と、該第1物体面上の微細パターンの回折光の出射方向とが一致するようにしていることを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 B ,  H01L 21/30 528

F-Term (11)：

5F046AA02 ,  5F046AA05 ,  5F046AA11 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CC04 ,  5F046DA02 ,  5F046DD03