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J-GLOBAL ID：200903085146050299

反射型マスクとその製造方法および修正方法

Inventor： 伊東 昌昭 ,  老泉 博昭 ,  森山 茂夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991210614
Publication number (International publication number)：1993055120
Application date： Aug. 22, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】欠陥修正が可能な反射型マスクを提供する。【構成】X線反射型マスクにおいて、中間部3をはさんで多層膜反射部2,4を二つ設ける。上層の多層膜反射部に欠陥がある場合、下層の多層膜反射部2を露出させて欠陥を修正する。【効果】反射型マスクの欠陥修正が可能となり、リソグラフィコスト低減の効果が大きい。

Claim (excerpt)：

基板上に、X線の反射部とX線を吸収する中間部およびX線の反射部が前記の順に形成され、前記上層の反射部がパターンに応じて形成されていることを特徴とする反射型マスク。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16