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J-GLOBAL ID：200903085198364402

X線マスク検査装置

Inventor： 村上 勝彦 ,  押野 哲也
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140981
Publication number (International publication number)：1994349715
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 反射型X線マスクのパターンの欠陥を容易に検査することができるX線マスク検査装置を提供する。【構成】 放射光20をトロイダルミラー22で成形して短波長のX線を除去し、ベリリウムフィルター24で紫外から可視にかけての長波長成分を除去する。取り出された軟X線によりステージ30に取り付けた反射型X線マスク10を照射し、反射したX線をウォルターミラー40に導いてMCP50上にマスクの像を拡大結像させる。ステージ30をxy方向へ移動させて反射型X線マスク10の全面の像をMCP50で取り込み、取り込んだ画像を本来のマスクのパターンデータと対比する。

Claim (excerpt)：

反射型X線マスクの欠陥を検査するX線マスク検査装置であって、前記反射型X線マスクに対してX線を照射する照射手段と、前記反射型X線マスクを前記照射手段から照射されるX線と交差する方向へ相対移動させる走査手段と、前記反射型X線マスク上で反射したX線を結像させるX線光学系と、前記X線光学系により結像されたX線像を検出する検出手段と、を備えることを特徴とするX線マスク検査装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G21K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 光学系評価装置及び光学系評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-251142   Applicant：日本電信電話株式会社
• 特開平4-129210