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J-GLOBAL ID：200903085229355180

プロセスの制御方法

Inventor： 温井 一光 ,  荒川 正裕 ,  谷口 豊知
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社 ,  山武ハネウエル株式会社
Agent (1)： 三觜 晃司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991098273
Publication number (International publication number)：1993346806
Application date： Apr. 03, 1991
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：

【要約】(目的) 各種条件の変化による目的関数の変化に応じて、PID定数をスケジューリングし、所定の時間的変化率で、最適なPID定数へ徐々に変更する。(構成) 系自体の安定性が乏しいプロセスの制御機構10であり、スケジューリング手段17により、各種条件の変化に基づく目的関数の量的、方向的変化にかかる検出信号に基づいてPID定数の最適値を選択し、前記変化率リミッタ16により所定の時間的変化率で徐々にPID定数を最適値へと変更し、その最適値にかかる信号を前記PID制御部11に導出する。(効果) 安定性に乏しい系であっても、制御性を維持することができる。

Claim (excerpt)：

PID制御を行うプロセスの制御機構において、外的要因による各種条件の変化に基づく目的関数の量的、方向的変化を検出して、この量的、方向的変化にかかる検出信号に基づいて、PID定数の最適値へと徐々に変更することを特徴とするプロセスの制御方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭58-149503