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J-GLOBAL ID：200903085256916232
ウェーハ洗浄装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
尾川 秀昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994095790
Publication number (International publication number)：1995283187
Application date： Apr. 08, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：
【要約】【目的】 半導体ウェーハ6をウェーハ保持具(ウェーハキャリア)5により保持した状態でウェーハ保持具搬送手段(搬送チャック)7により各洗浄槽1内に搬送して洗浄液2により洗浄するウェハー洗浄装置において、各洗浄槽1を小さくて済むようにすることにより各洗浄槽、ウェーハ洗浄装置全体の小型化、狭占有面積化を図ると共に、洗浄液2の使用量の低減を図る。【構成】 内槽を有しない洗浄槽1a、1b、1cと、洗浄槽1a、1b、1c内部に装着されたとき洗浄槽の内槽を成すウェーハ保持具(ウェーハキャリア)5と、該ウェーハ保持具(ウェハーキャリア)5を搬送する搬送チャック7を有する。
Claim (excerpt)：
内槽を有しない構造の一又は複数の洗浄槽と、一又は複数のウェーハを保持し上記洗浄槽内部に着脱自在であって洗浄槽内部に装着されたとき洗浄槽の内槽を成すウェーハ保持具と、上記ウェーハ保持具を搬送して洗浄槽内部に装着した状態にしたり洗浄槽から離脱させたりするウェーハ保持具搬送手段と、を少なくとも有することを特徴とするウェーハ洗浄装置
IPC (4)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
, B08B 11/04
