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J-GLOBAL ID：200903085259838160

オキシラン化合物の製造方法

Inventor： 志賀 紀仁 ,  笠井 幹生 ,  河村 保夫
Applicant, Patent owner： 日産化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000376967
Publication number (International publication number)：2002179663
Application date： Dec. 12, 2000
Publication date： Jun. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 反応性の高い塩素原子とエポキシ基を有し、接着剤、および電子材料や建築分野等で使用されるエポキシ樹脂、耐熱性ポリマー等の合成原料として有用なオキシラン化合物の製造に関する。【解決手段】 式(1):【化1】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアリルクロライド類を、有機溶媒中で、タングステン酸、りん酸、及び4級アンモニウム塩の存在下に、過酸化水素によって反応系内にヘテロポリ酸を形成させエポキシ化する反応において、反応系内のpHを1.6〜2.0に制御することを特徴とする式(2):【化2】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるオキシラン化合物の製造方法である。

Claim (excerpt)：

式(1):【化1】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアリルクロライド類を、有機溶媒中で、タングステン酸、りん酸、及び4級アンモニウム塩の存在下に、過酸化水素によって反応系内にヘテロポリ酸を形成させエポキシ化する反応において、反応系内のpHを1.6〜2.0に制御することを特徴とする式(2):【化2】(式中、R1、R2及びR3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で表されるオキシラン化合物の製造方法。

IPC (3)：

C07D301/12 ,  C07D303/08 ,  C07B 61/00 300

FI (3)：

C07D301/12 ,  C07D303/08 ,  C07B 61/00 300

F-Term (8)：

4C048AA01 ,  4C048BB02 ,  4C048BB04 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40