Pat

J-GLOBAL ID：200903085315494657

マスクパターン設計方法

Inventor： 金井 秀樹
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065639
Publication number (International publication number)：2000258892
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 22, 2000
Summary：

【要約】【課題】 アラインメント誤差による連結配線部の寸法変動を無くすこと及び、ゲート部の制御性を向上させること。【解決手段】 微細ゲート部と連結配線が近接する領域では、連結配線を予め設定した基準値以上に遠ざける(ステップ106〜108)ことにより、アラインメント誤差による連結配線部の寸法変動を無くすことができる。又、ゲート部を挟む開口の幅に応じて第1のOPCで補正を加え、更に、最も外側の開口の幅を内側の開口の幅に揃えるように第2のOPCで補正を加える(ステップ114)ことにより、ゲート部の制御性を向上させることができる。

Claim (excerpt)：

素子領域と配線のパターンデータを用いて論理演算を行うことにより複数のパターンデータを発生させることによりマスクパターンを設計するマスクパターン設計方法において、前記素子領域に予め設定した距離以下に近接する配線の一部又は全部を前記設定距離以上になるように遠ざける処理を含むことを特徴とするマスクパターン設計方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/82

FI (5)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/28 D ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/82 D ,  H01L 21/82 C

F-Term (19)：

2H095BB01 ,  2H095BB03 ,  4M104AA01 ,  4M104BB01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD16 ,  4M104DD62 ,  4M104EE03 ,  4M104GG14 ,  4M104HH14 ,  5F064BB09 ,  5F064BB13 ,  5F064DD08 ,  5F064DD14 ,  5F064DD24 ,  5F064EE17 ,  5F064EE26 ,  5F064EE36 ,  5F064HH06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平2-012823