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J-GLOBAL ID:200903085340314493

光導波路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997050457
Publication number (International publication number):1998246826
Application date: Mar. 05, 1997
Publication date: Sep. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 安全性、簡便性に優れ、熱ひずみ等の問題の少ない光誘起屈折率変化を用いた石英系光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 石英系材料よりなる光導波路の製造方法において、有機材料を含む原料を用いて常圧化学気相堆積(AP-CVD)法により基板上に石英系光導波路層を形成した後、該石英系光導波路層の少なくとも一部に紫外光を照射し、該紫外光を照射した部分の屈折率を変調させる。有機材料として、(a)シリコン系有機化合物、(b)リン系有機化合物、(c)ゲルマニウム系有機化合物またはボロン系有機化合物を含むものを用い、光導波路層形成時に3mol%以上の酸化リン(P2O5)をドープする。
Claim (excerpt):
石英系材料よりなる光導波路の製造方法において、有機材料を含む原料を用いて常圧化学気相堆積(AP-CVD)法により基板上に石英系光導波路層を形成した後、該石英系光導波路層の少なくとも一部に紫外光を照射し、該紫外光を照射した部分の屈折率を変調させることを特徴とする光導波路の製造方法。
IPC (2):
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2):
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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