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J-GLOBAL ID：200903085349804345

シリコンウエハ洗浄装置

Inventor： 田辺 円
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 赤塚 賢次 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996307466
Publication number (International publication number)：1998135173
Application date： Nov. 01, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 排出されるフッ酸廃液を減少させ、廃液処理に要するコスト負担を低減させると共に、環境保護に寄与するシリコンウエハ洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽2内の希フッ酸の上昇流中でシリコンウエハ18を洗浄する。希フッ酸はオーバーフローして集水部16に集められた後、電気式脱イオン装置22でケイ酸分が除去され、紫外線酸化装置26で有機物が酸化分解され、精製カラム24で不純物を除去した後、洗浄槽2内に返送される。

Claim (excerpt)：

少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に収納するとともに前記薬液によってシリコンウエハ表面を洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、枠体の一方の側に陽イオン交換膜を封着するとともに、他方の側に陰イオン交換膜を封着して、当該枠体と両イオン交換膜で形成される内部空間にイオン交換体を充填してなるイオン分離モジュールを離間させて複数個並設し、当該並設した複数個のイオン分離モジュールの両側に陰電極と陽電極を配設し、両電極間に直流電流を通ずるとともに、前記それぞれのイオン交換体充填部に被処理液を通過させることにより、少なくとも一部のイオンが分離除去された処理液を外部に取り出すようにした電気式脱イオン装置を介装してなり、前記薬液を前記洗浄槽外部に取り出すとともに前記電気式脱イオン装置を通過させることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/469

FI (3)：

H01L 21/304 341 S ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/46 103